Ultra ince çökmüş alüminyum hidroksit

Shandong Taixing New Material Co., Ltd., ultra ince çökeltilmiş alüminyum hidroksit profesyonel bir üreticisidir.

Ultra-ince çökeltilmiş alüminyum hidroksit (AL (OH) 3 CAS No. 21645-51-2), ultra ince partikül boyutuna, düzenli kristal yapıya, yüksek saflık, düşük yüzey aktivitesi, düşük yüzey alanı, düşük yüzey alanı, düşük yüzey alanı, işleme teknolojisinin çeşitlilerinde yaygın olarak kullanılabilir.

Ultra-ince çökelme alüminyum hidroksit (Kimyasal Formula AL (OH) ₃）, alüminyum tuz çözeltisinin ve hidrotermal sentez işleminin kesin titrasyonu ile hazırlanan beyaz bir nano tozudur ve ortalama 80-300nm ve ≥% 99.99 (toplam safsızlıklar <10ppm <10ppm).

Nano seviyesi hassas kontrol: Mikroakışkan yağış teknolojisi kullanılarak parçacıklar, partikül boyutu dağılım sapmasına sahip monodispers küreseldir.

Ultra Yüksek Saflık Garantisi: Membran ayrımı ve şelasyon safsızlık giderme işlemleri yoluyla, Fe, Na, Si, vb. Gibi safsızlık iyonlarının içeriği, metal iyonları için yarı iletken dereceli malzemelerin katı gereksinimlerini karşılamaktadır (Fe ³+≤ 0.5ppm gibi).

Yüzey fonksiyonelleştirme tasarımı: Yağış koşullarını ayarlayarak, farklı arayüz modifikasyon gereksinimlerini karşılamak için yüzey hidroksil (- OH), karboksil (- COOH) ve diğer fonksiyonel grupların yoğunluğu kontrol edilebilir (0.5-5.0 mmol/g).

Fiziksel ve kimyasal özellikler

Anahtar avantaj:

Düşük Na2O%: (çözünür Na2O%≤0.015)

Düşük elektrik iletkenliği ： ≤30μs/cm

Düşük Kalıntı İçeriği (elekte) ： ≤0.01% (400mesh)

Daha az siyah lekeler ve safsızlıklar ： ≤25/100 gram

Başvuru:Kablolarda ve kablolarda, bakır kaplı plakalarda (CCL), kompozit izolatörlerde, ısı yalıtım malzemesinde vb. Kullanılması önerilir.

1. katalizörler ve enerji malzemeleri

Yakıt Hücresi:

Proton değişim zarı (PEM) için bir dolgu malzemesi olarak, nanopartiküller polimer matrisinde eşit olarak dağılır, proton iletkenliğini% 15 arttırır ve membran tabakasının (gerilme mukavemeti ≥ 50mPa) mekanik mukavemetini arttırır.

Fotokatalitik Materyaller:

Tio ₂ yüklendikten sonra, ışık emme verimliliğini%40 artıran bir çekirdek kabuk yapısı (AL (OH) ₃@tio₂) oluşur. Organik atık su arıtımı için kullanıldığında, COD bozunma oranı 0.2mg/(l · dak) 'a ulaşır.

2. Elektronik bilgi ve yarı iletkenler

Gelişmiş Seramik Substrat:

ALN seramik düşük sıcaklık CO ateşleme (LTCC) işlemi için kullanılan nano seviyesi dolgusu, substrat yoğunluğunu ≥%99 ve dielektrik sabitini (ε) 8.5 ± 0.2'de stabil, 5G baz istasyonu anten modülleri için uygun hale getirir.

Yarıiletken Ambalaj Yapıştırıcısı:

Epoksi reçinesine (doldurma miktarı%50VOL) eklendiğinde, termal iletkenlik 4.0W/(m · k) 'ya yükseltilir ve termal genleşme (CTE) katsayısı 6ppm/℃' e düşürülür ve Chip seviyesi ambalajının (CSP) güvenilirlik gereksinimlerini karşılar.

3. Biyofarmasötikler ve üst düzey preparatlar

Hedeflenen ilaç dağıtım sistemi:

Folik asit (FA) modifikasyonu ile yüzey birleşmesinden sonra,% 30'a kadar ilaç yüklemesi ve 48 saatlik genişletilmiş bir in vitro ilaç salımı yarılanma ömrü ile tümör hücrelerini doğru bir şekilde hedefleyebilir.

Enjeksiyon sınıfı eksipanslar:

Bir aşı adjuvanı olarak kullanıldığında, partikül boyutunun tekdüzeliği (CV ≤%5) tutarlı bağışıklık tepkisi sağlar ve antijen adsorpsiyon verimliliği geleneksel alüminyum adjuvanların iki katıdır.

Ambalajlama:Net ağırlık 25kg/torba, bileşik kağıt plastik torba

Depolama ve dikkat:Isıtmayı önleyerek kuru, oda sıcaklığı ve nem geçirmez durumda tutun

Ultra-ince çökeltilmiş alüminyum hidroksit sipariş etmeye hoş geldiniz

Günde 24 saat, haftada 7 gün iletişime geçin.